新闻资讯_半导体臭氧发生器_ALD用臭氧发生器-北京同林臭氧

首页 > 新闻资讯

新闻资讯

新闻资讯

2025-04-23 半导体企业臭氧设备维保项目有哪些
半导体企业臭氧设备维保项目有哪些半导体企业在生产过程中广泛使用臭氧设备（如臭氧发生器）用于晶圆清洗、氧化、去胶等工艺，其维保项目及常见进口品牌如下：一、半导体...
查看详情
2025-04-21 ‌如何降低臭氧在半导体工艺中的成本？‌
‌如何降低臭氧在半导体工艺中的成本？‌在半导体工艺中，臭氧（O₃）常用于氧化、清洗和光刻胶去除等环节，但其高成本主要源于生成、维护和消耗。以下是降低臭氧成本的综...
查看详情
2025-04-15 原子层沉积（ALD）薄膜生长与臭氧的关系探究
原子层沉积（ALD）薄膜生长与臭氧的关系探究原子层沉积（ALD）作为一种先进的薄膜制备技术，在众多领域展现出卓越的应用潜力，而臭氧在ALD过程中扮演着举足轻重的...
查看详情
2025-04-09 臭氧在分子束外延（MBE）中的应用研究
本文综述了臭氧（O₃）作为氧化剂在分子束外延（Molecular Beam Epitaxy, MBE）系统中的关键应用。重点探讨了臭氧在氧化物薄膜生长、界面工程...
查看详情
2025-03-31 不同类型的 PLD 设备对臭氧通入腔体镀膜的影响有哪些？
不同类型的 PLD 设备对臭氧通入腔体镀膜的影响有哪些？PLD（脉冲激光沉积）设备在镀膜过程中有着广泛的应用，而臭氧的通入可以对镀膜产生重要影响。不同类型的 P...
查看详情
2025-03-26 臭氧在 PLD 腔体镀膜中的作用机制具体是什么？
臭氧在 PLD 腔体镀膜中的作用机制具体是什么？臭氧在 PLD（物理气相沉积）腔体镀膜中的作用机制较为复杂，以下是对其作用机制的详细分析：一、臭氧在 PLD 腔...
查看详情
2025-03-20 臭氧发生器如何提升ALD/PLD薄膜沉积质量？
臭氧发生器如何提升ALD/PLD薄膜沉积质量？引言在半导体制造领域，原子层沉积（ALD）和脉冲激光沉积（PLD）是两种关键的薄膜沉积技术，广泛应用于高精度、...
查看详情
2025-03-12 臭氧在PLD镀膜中的作用机理及应用场景
臭氧在PLD镀膜中的作用机理及应用场景在PLD（脉冲激光沉积）腔体镀膜实验中，臭氧（O₃）作为一种强氧化剂，可用于优化薄膜的化学组成、结晶性和功能性。以下是臭氧...
查看详情
2025-02-27 臭氧在氧化层生长应用中工艺流程与效果
臭氧在氧化层生长应用中的工艺流程与效果臭氧（O₃）在氧化层生长中的应用是半导体制造中的关键技术之一，主要用于热氧化工艺。通过将硅片在高温环境下与含臭氧的氧气反应...
查看详情
2025-03-12 CVD（化学气相沉积）工艺中臭氧的用途
CVD（化学气相沉积）工艺中臭氧的用途CVD（化学气相沉积）臭氧工艺是一种利用臭氧（O₃）作为反应气体的薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、光学涂层等领域。CVD（...
查看详情
2025-03-12 ALD 臭氧工艺：材料科学中的关键技术
ALD（原子层沉积）臭氧工艺是一种在材料科学领域具有重要应用价值的技术。它利用臭氧（O₃）作为前驱体或氧化剂，通过原子层沉积的方法制备各种高性能的薄膜材料。以下...
查看详情
2025-02-14 臭氧发生器在晶圆清洗中用途
臭氧发生器在晶圆清洗中扮演着重要角色，主要用于去除晶圆表面的有机污染物、光刻胶残留和金属杂质。以下是其用途、原理、连接方法、浓度控制、优点及相关文献摘要的详细说...
查看详情
2025-02-10 氧化层生长中臭氧相较其他氧化剂的优势
氧化层生长中臭氧相较其他氧化剂的优势在氧化层生长中，臭氧相较其他氧化剂具有以下优势：氧化能力强：臭氧是自然界最强的氧化剂之一，在水中氧化还原电位仅次于氟而居第二...
查看详情
2025-02-08 臭氧发生器在原子层沉积（ALD）过程中如何控制臭氧的浓度和流量？
臭氧发生器在原子层沉积（ALD）过程中如何控制臭氧的浓度和流量？在原子层沉积过程中，精准控制臭氧的浓度和流量对于确保薄膜沉积质量和工艺稳定性至关重要，以下是臭氧...
查看详情
2025-02-08 臭氧发生器在原子层沉积（ALD）中的具体作用
臭氧发生器在原子层沉积（ALD）中的具体作用原子层沉积（ALD）是一种基于表面自限制反应的薄膜沉积技术，能够在纳米尺度上精确控制薄膜的厚度、成分和均匀性，在半...
查看详情
2025-01-07 臭氧ALD工艺有哪些设备组成
臭氧ALD工艺有哪些设备组成臭氧在ALD（原子层沉积）工艺中扮演着重要角色，主要用于形成CVD及ALD薄膜、氧化物生长、光刻胶去除和多种清洁应用。以下是臭氧AL...
查看详情
2024-12-19 臭氧基间歇原子层沉积 Al2O3用于有效的表面钝化研究
臭氧基间歇原子层沉积 Al2O3用于有效的表面钝化研究在本文中，我们比较了水和臭氧作为氧化剂在Al2O3 ALD反应中的表面钝化质量。实验表明，即使在沉积薄膜中...
查看详情
2024-12-04 臭氧浓度对砷化镓原子层沉积HfO2的影响
臭氧浓度对砷化镓原子层沉积HfO2的影响系统研究了臭氧（O3）浓度（90,300 g/Nm3）对以四（二甲氨基）铪（TDMAHf）为Hf前驱体的GaAs晶圆上H...
查看详情
2024-11-29 泛半导体中的原子层沉积（ALD）的应用
泛半导体中的原子层沉积（ALD）的应用泛半导体器件，包括光伏和显示器，分别是基于电子空穴对的产生或重组。不同层之间的界面会极大地影响载流子输运，从而影响泛半导...
查看详情
2024-11-06 使用来自高纯度臭氧气体和乙烯气体的活性物质的新型低温成膜法
使用来自高纯度臭氧气体和乙烯气体的活性物质的新型低温成膜法简介近年来，在以有机电子为主的领域中，在耐热温度较低的薄膜上制作半导体器件的工艺以及为避免因热损伤而导...
查看详情

推荐新闻

标签

关于我们
产品中心 臭氧发生器臭氧气体分析仪溶解臭氧分析仪臭氧尾气分解器水质分析仪氧气分析仪管路阀门 ALD与PLD臭氧解决方案进口臭氧发生器与臭氧检测仪维修
案例展示
友情链接

联系我们

第一时间了解我们的新产品发布和最新的资讯文章。

北京同林科技有限公司是一家是提供高纯高浓度臭氧发生器系统服务商，目前产品包括半导体用高浓度臭氧发生器、臭氧气体分析仪、溶解臭氧分析仪、臭氧水机、半导体用管道和接头等。已经应用于众多半导体企...

您有什么问题或要求吗？

点击下面，我们很乐意提供帮助。 联系我们

Copyright © 2003-2023北京同林臭氧版权所有京ICP备17038069号-11