为ALD工艺赋能：同林科技三款高性能臭氧发生器解析（视频）

为ALD工艺赋能：同林科技三款高性能臭氧发生器解析（视频）

在原子层沉积（ALD）工艺中，臭氧源的浓度、稳定性与可靠性直接决定着薄膜沉积的质量与效率。北京同林科技深耕行业应用，针对不同用户场景，推出三款高性能臭氧发生器解决方案，为您的工艺创新保驾护航。

1. Apex H32 (旗舰高浓度型)：专为尖端研发与半导体量产打造。其臭氧浓度超过200mg/L，具备触屏智能操控与耐高压设计，是半导体前道ALD工艺沉积高K介质/金属氧化物的理想选择，确保卓越的薄膜均匀性与致密性。

2. Micro 16 (紧凑集成型)：为设备集成与空间优化而生。在保持150mg/L+高浓度的同时，采用模块化与静音风冷设计，体积小巧，极易集成于ALD设备或部署于纳米材料、光伏中试线，是制造商配套的优质之选。

3. 3S-T10 (经济实用型)：面向高校与开发团队的性价比标杆。浓度可达120mg/L，支持连续长时间稳定运行与浓度调节，完美满足材料科学课题组及薄膜器件工艺开发需求，助力科研探索。

三款产品已广泛应用于高校、科研院所及半导体企业。

注：视频中有的型号为定制款，详情咨询同林。