实测回应半导体企业要求：Atlas H30臭氧发生器稳定性测试

实测回应半导体企业要求：Atlas H30臭氧发生器稳定性测试

对于半导体制造而言，稳定性绝非一个选项，而是贯穿每一道工艺的绝对命令。臭氧发生器作为ALD前驱体的关键源，其输出稳定性直接关联着薄膜的均匀性、重复性乃至最终芯片的良率。北京同林深知此中利害，并以此为标准，对Atlas H30进行了稳定性实测。

本次测试直面半导体量产需求，模拟不间断运行工况。在设定输出230mg/L的高浓度下，Atlas H30波动被严格控制在±1%的区间内，符合行业标准。

Atlas H30以数据证明，它所能提供的不仅是臭氧，更是贯穿每一个晶圆、每一个循环的工艺一致性与量产可靠性，是您打造先进制程ALD工艺的坚实底座。