臭氧浓度稳定性测试

在原子层沉积（ALD）、半导体工艺中使用臭氧具有多方面的优势，这种工艺是一种精密薄膜沉积技术，广泛应用于半导体、光电子器件、纳米技术等领域。臭氧作为氧化剂，能够提供高质量的氧原子源，与金属有机前体分子反应，形成氧化物或氢氧化物薄膜。由于ALD工艺的每一步反应都是单层分子沉积，使用臭氧能够提供非常纯净且致密的薄膜沉积。因此臭氧的稳定性非常重要。