半导体臭氧浓度在线监测：传感器选型、安装位置与闭环控制

半导体臭氧浓度在线监测：传感器选型、安装位置与闭环控制，适用于 ALD、CVD、PLD、半导体氧化工艺臭氧在线监测系统设计

一、为什么半导体工艺需要在线监测

臭氧浓度直接影响氧化反应速率、薄膜质量及工艺重复性。对于ALD、CVD等工艺，实际进入反应腔体的臭氧浓度比发生器出口浓度更具参考价值，因此在线监测是保证工艺稳定的重要手段。

二、三个关键监测点位

建议在臭氧发生器出口、腔体入口和尾气排放口设置监测点。

三、臭氧分析仪安装方式

对于半导体设备，推荐采用旁路取样（Bypass Sampling）方式，而非将分析仪直接串入主工艺气路，比如北京同林科技有限公司的3S-J5000臭氧在线检测仪。

推荐气路结构：

氧气源 → MFC → 臭氧发生器 → 主管路 → 工艺腔体
                    ↓
                 臭氧分析仪（旁路取样）

四、MFC与臭氧分析仪集成逻辑

MFC负责流量控制，分析仪负责浓度监测，两者形成“设定—监测—反馈”的闭环控制。分析仪通常不承担主气路流量控制功能。

五、典型配置方案

如需半导体ALD/CVD臭氧系统、臭氧分析仪、MFC集成方案设计，可联系北京同林臭氧。