北京某大学臭氧发生器用于ALD薄膜制备研究

北京某高校材料实验室使用3S-T10型臭氧发生器，用于原子层沉积（ALD）薄膜制备研究。该设备采用先进的臭氧发生技术，臭氧产量达10g/h，臭氧浓度可达120mg/L（相当于10wt%），具有浓度精准可调、稳定性强的特点，能满足高质量氧化物薄膜生长对活性氧源的需求。