使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度

使用臭氧水可去除的物质以及所需臭氧的浓度

利用臭氧的强氧化能力，可以实现分解并去除大量的杂质。

根据杂质的形状与数量的不同，所需浓度也将有所变化，请参考下图数据。

此外，如将稀氢氟酸与臭氧水同时使用，去除杂质的效果将倍增。

使用臭氧水用途 

◯半导体（清洗）

◯FPD，液晶（清洗）

◯MEMS，传感器（清洁）

◯硬盘（清洗）

◯太阳能电池（清洁）

◯医疗（洗手，纯净水管道清洗）

◯食品（洗手，消毒，除臭）

使用臭氧水清洗的优点

①减少化学药品的使用

a) 半导体用化学药品一般包括SC1(NH4OH/H2O2/DIW) 和SC2 (HCl/H2O2/DIW)，但是SC1 和SC2是相对较贵，并且需在60-100 ℃的高温条件下发生作用，难以使用。而近年，臭氧水作为可替代SC1 和SC2 的新的清洗方式， 受到广泛关注。因为仅仅是将纯净水通过臭氧水生成器，便可以简单地产生臭氧，因此可大大降低运营成本。

b) 使用臭氧水进行清洗处理后，臭氧成分便迅速蒸发，因此废水处理也十分容易。

②出色的清洗能力(颗粒， 金属污染物，有机物质)

因为臭氧拥有仅次于氟素的氧化还原能力，其清洗能力高于SC1、SC2尤其是用于清洗表面很难氧化的碳化硅或氮化镓基板也十分有效。(两者作为半导体材料受到广泛关注）