江苏某企业臭氧用于晶片清洁
臭氧在晶片清洁中有着广泛的应用,其主要作用是通过氧化作用去除晶片表面的有机污染物和微生物,从而达到清洁和消毒的效果。
国产高浓度紫外臭氧分析仪
Apex H30 ALD 用高浓度臭氧发生器(22
ALD用液化超纯臭氧发生器
高浓度板式臭氧发生器(MBE、半导体、科研用)
B20高浓度臭氧发生检测系统
EXT-10高纯净臭氧发生器 (无金属污染及析出)
3S-T10(10g/h) ALD专用臭氧发生器
BMT803N臭氧发生器实测浓度达200mg/L
NANO15臭氧发生器与BMT965 ST用于AL
NANO15臭氧发生器集成ALD现场
北京某大学臭氧发生器用于ALD薄膜制备研究
某科学院臭氧发生器用于PLD
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