江苏某企业臭氧用于晶片清洁
臭氧在晶片清洁中有着广泛的应用,其主要作用是通过氧化作用去除晶片表面的有机污染物和微生物,从而达到清洁和消毒的效果。
B20高浓度臭氧发生检测系统
国产高浓度紫外臭氧分析仪
Apex H30 ALD 用高浓度臭氧发生器(22
ALD用液化超纯臭氧发生器
高浓度板式臭氧发生器(MBE、半导体、科研用)
EXT-10高纯净臭氧发生器 (无金属污染及析出)
3S-T10(10g/h) ALD专用臭氧发生器
为某院ALD设备提供高浓度臭氧源测试现场
某PLD设备商高浓度臭氧发生器测试
BMT803N臭氧发生器实测浓度达200mg/L
NANO15臭氧发生器与BMT965 ST用于AL
NANO15臭氧发生器集成ALD现场
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