江苏某企业臭氧用于晶片清洁
臭氧在晶片清洁中有着广泛的应用,其主要作用是通过氧化作用去除晶片表面的有机污染物和微生物,从而达到清洁和消毒的效果。
Apex H32 ALD 用高浓度臭氧发生器(22
高浓度板式臭氧发生器(MBE、半导体、科研用)
M10半导体PLD用臭氧发生器
Micro 16 ALD用臭氧发生器
3S-T10(10g/h) ALD专用臭氧发生器
EXT-10高纯净臭氧发生器 (无金属污染及析出)
ALD用液化超纯臭氧发生器(日本meiden)
北京某大学臭氧发生器用于ALD薄膜制备研究
某科学院臭氧发生器用于PLD
某科学院用于原子层沉积(ALD)领域
高浓度臭氧用于增强分子束外延(MBE)
某高校高量程臭氧水检测仪现场
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