ALD半导体专用臭氧破坏装置 – 安全可靠的臭氧消除

ALD半导体专用臭氧破坏装置 – 安全可靠的臭氧消除

F2臭氧破坏装置是一个坚固的催化臭氧破坏装置，旨在安全高效地将臭氧 (O₃) 转化为氧气 (O₂)。 该装置采用真正的催化过程，提供了一种维护方便、无消耗材料的解决方案，用于处理工艺气体流中的臭氧。

F2是一种高性能臭氧破坏装置，专为30 LPM的干臭氧气体流设计。该系统采用全不锈钢内部结构且无移动部件，旨在满足苛刻的臭氧应用需求，确保长期性和可靠性。

参数

进气压力＜0.1Mpa

处理效率99.99%

重量：3kg

干燥臭氧：＜5L/min@100mg/L。＜30L/min@200ppm

接口：1/4NPT

主要特点包括：

不锈钢结构 –以确保与臭氧的卓越兼容性。

可逆流动方向 – 没有专用的入口或出口。

垂直安装 –以确保气体流动高效并防止短路。

可更换催化剂介质 –用于长期、经济高效的运行。

处理湿度和湿气

虽然F2在干气应用中表现出色，在环境或湿气应用中，湿度水平超过40%的应用需要不同的考虑：

40–60% 湿度：预计流量能力降低。

相对湿度超过60%：使用加热臭氧破坏装置以防止催化剂介质上凝结。

易于维护，带有可更换的催化剂

随着时间的推移，F2中的臭氧催化剂可能会被VOCs、酸或灰尘等杂质污染。幸运的是，更换催化剂非常简单：

移除顶部盖子以访问内部屏幕和垫圈。

倒出旧的催化剂 并用新鲜的介质替换。

预计维护时间：少于30分钟。

常见问题

问：F2是否适合我的应用？

答： 如果您的臭氧气体流是干燥的且臭氧水平超过1 ppm，请使用F2。如果您的气体含有大量水分，请考虑使用带加热元件。

问：催化剂多久更换一次？

答： 对于干气：预计使用寿命为多年。对于湿气：每年更换。目视检查和效率下降是指标。

问：如果催化剂受潮会怎样？

答： 可以低于200℃的烤箱中烘干。然而，更换它能确保效果和安全性。