半导体科研用高浓度臭氧水机
半导体科研级高浓度臭氧水机专为半导体行业应用而开发设计,采用高浓度、超纯净臭氧生成与混合控制技术,选用高品质、超纯耐臭氧材料,实现为半导体行业应用提供超洁净、高浓度臭氧水。

参数
臭氧水流量:0.5-100L/min
臭氧水浓度:5-100ppm;
臭氧水压力:15-50psi
氧气流量:1-20SLM
冷却水流量:0.5-15L/min
冷却水温度:15-25℃
电源:220V
特点
● 溶解臭氧水浓度:5-100ppm;
● 在不同流量下保持恒定的臭氧浓度和操作压力;
● 溶解氧O3水监测仪集成;
● 超净半导体工艺;
● 闭合回路DIO3浓度控制系统;
● 气液分离装置集成,无气泡臭氧水;
● 高效臭氧接触器;
● 半导体 S2 和 CE 认证;
● 应用:清洁、表面处理、蚀刻
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北京同林科技有限公司是一家是提供高纯高浓度臭氧发生器系统服务商,目前产品包括半导体用高浓度臭氧发生器、臭氧气体分析仪、溶解臭氧分析仪、臭氧水机、半导体用管道和接头等。 已经应用于众多半导体企... 您有什么问题或要求吗?
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